Hochreines Sputtering Metal Target Wolfram W Target speziell geformte Anpassung Hersteller aus China

Wolfram-Zielmaterial. Das chemische Elementsymbol von Wolfram ist W, die Ordnungszahl beträgt 74, die relative Atommasse beträgt 183,85, der Atomradius beträgt 137 Pikometer und die Dichte beträgt 19,35 Gramm pro Kubikzentimeter. Es gehört zur sechsten Periode des Periodensystems (der zweiten langfristigen) VIB-Familie. Wolfram ist in der Natur hauptsächlich ein sechswertiges Kation und sein Ionenradius beträgt 0,68 × 10 – 10 m. Da W6+ einen kleinen Ionenradius, einen hohen Strompreis, eine starke Polarisationsfähigkeit und eine einfache Bildung komplexer Anionen hat, liegt Wolfram hauptsächlich in Form von komplexen Anionen [WO4]2- vor, die sich mit Fe2+, Mn2+, Ca2+ und anderen Kationen in . verbinden die Lösung, um Wolframit oder weißes Wolframerz zu bilden, fällt aus. Wolfram ist nach dem Schmelzen ein silberweiß glänzendes Metall mit extrem hohem Schmelzpunkt, hoher Härte, niedrigem Dampfdruck, geringer Verdampfungsrate und relativ stabilen chemischen Eigenschaften.

Wolfram kann zur Herstellung von Schusswaffen, Düsen von Raketentriebwerken, Metallschneidklingen, Bohrern, superharten Matrizen, Drahtziehmatrizen usw. verwendet werden. Es hat ein breites Anwendungsspektrum. Die wichtigsten Legierungen der Legierungsreihe sind legierter Stahl und verschiedene Schmiedeteile aus reinem Wolfram. Bei der Herstellung von Elektronenröhren, der Radioelektronik und der Röntgentechnik werden Compounds hauptsächlich zur Herstellung bestimmter Farben und Pigmente, Tinten, Galvanik etc. sowie als Katalysatoren verwendet. Die folgende Abbildung zeigt zwei typische mikroskopische metallographische Inspektionsbilder von Wolfram-Sputtering-Targets mit einer durchschnittlichen Partikelgröße von <50 um.

Sofern Sie detaillierte Zielinformationen wie Reinheit, Größe, Toleranzanforderungen und andere technische Anforderungen angeben, erstellen wir Ihnen schnellstmöglich ein Angebot und bieten Ihnen die schnellste Lieferzeit.

Wir produzieren hochreine Sputtertargets. Sein wichtigster Vorteil besteht darin, dass im Prozess der physikalischen Gasphasenabscheidung ein dünner Film mit hervorragender Leitfähigkeit und Partikelminimierung erhalten werden kann. Die folgende Tabelle ist das Zertifikat der Zusammensetzungsanalyse des hochreinen Wolfram-Sputtertargets 3N5. Die verwendeten Analysemethoden: 1. Verwenden Sie ICP-OES, um Metallelemente zu analysieren; 2. Verwenden Sie LECO, um Gaselemente zu analysieren.