Hochreines Sputtering-Metall-Target Nickel-Ni-Target speziell geformter Hersteller aus China

Nickel ist ein silberweißes Metall mit Magnetismus und guter Plastizität.
  • Art.-Nr:

    GS-T010
  • Zahlung:

    L/C、 Western Union、 D/P、 T/T
  • Produktursprung:

    Anhui, China
  • maximale Größe:

    Customization
  • Orientierung:

  • Paket:

    100 clean bag,1000 exactly clean bag
  • Produktdetail

  • Spezifikation

  • Prozessablauf

  • Verpackung

  • Transport

  • Testbericht

  • FAQ

Nickel-Zielmaterial. Nickel ist ein silberweißes Metall mit Magnetismus und guter Plastizität. Es hat eine gute Korrosionsbeständigkeit. Nickel ist ein Metallelement, das Silberweiß ähnlich, hart und duktil ist und Ferromagnetismus hat. Es kann hochglanzpoliert und korrosionsbeständig sein. Nach dem Auflösen in Salpetersäure wird es grün. Es wird hauptsächlich in Legierungen (wie Nickelstahl und Neusilber) und als Katalysator (wie Raney-Nickel, insbesondere als Hydrierungskatalysator) verwendet, mit einer Dichte von 8,902 G/cm3, einem Schmelzpunkt von 1453°C , und ein Siedepunkt von 2732°C. Wir können hochreine Nickel-Targets mit der höchsten Reinheit von 99,999 % herstellen, die hauptsächlich in der Halbleiter- und Mikroelektronikindustrie verwendet werden und das Schlüsselmaterial für Halbleiter-Rückelektroden sind. Durch wiederholte Kunststoffverarbeitung hat das von uns hergestellte Nickel-Target die Eigenschaften hoher Dichte, hoher Reinheit und gleichmäßiger Kornstruktur. Die Flexibilität unseres Produktionsprozesses ermöglicht es uns, die Mikrostruktur des Zielmaterials richtig anzupassen, um Ihren gewünschten Effekt zu erzielen. Wenn das Sputter-Target-Material eine gleichmäßige Korngröße hat, können eine gute Sputterrate und ein gleichmäßiger Film erhalten werden. Die folgende Abbildung zeigt zwei typische mikroskopische metallographische Inspektionsbilder von Nickel-Sputter-Targets mit einer durchschnittlichen Partikelgröße von etwa 100 um.

Sofern Sie detaillierte Zielinformationen wie Reinheit, Größe, Toleranzanforderungen und andere technische Anforderungen angeben, erstellen wir Ihnen schnellstmöglich ein Angebot und bieten Ihnen die schnellste Lieferzeit.

Der wichtigste Vorteil unseres hochreinen Nickel-Sputtering-Targets besteht darin, dass es während des physikalischen Gasphasenabscheidungsprozesses einen Film mit hervorragender Leitfähigkeit und minimierten Partikeln erhalten kann. Die folgende Tabelle ist ein Zertifikat für die Zusammensetzungsanalyse eines hochreinen Nickel-Sputtering-Targets über 4N5. Analysemethoden: 1. Verwenden Sie GDMS, um Metallverunreinigungselemente zu analysieren; 2. Verwenden Sie LECO, um Gaselemente zu analysieren.

Q:Sind Sie Handelsunternehmen oder Hersteller?
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