Hochreines Sputtering-Metall-Target Kupfer-Cu-Target speziell geformter kundenspezifischer Hersteller aus China

Kupfertargets unterschiedlicher Reinheit und Anforderungen mit einer Reinheit von 99,9 % bis 99,9999 %.
  • Art.-Nr:

    GS-T014
  • Zahlung:

    L/C、 Western Union、 D/P、 T/T
  • Produktursprung:

    Anhui, China
  • maximale Größe:

    Customization
  • Orientierung:

  • Paket:

    100 clean bag,1000 exactly clean bag
  • Produktdetail

  • Spezifikation

  • Prozessablauf

  • Verpackung

  • Transport

  • Testbericht

  • FAQ

Wir können Kupfertargets unterschiedlicher Reinheit und Anforderungen mit einer Reinheit von 99,9 % bis 99,9999 % herstellen. Der Sauerstoffgehalt kann bis zu <1 ppm betragen. Es wird hauptsächlich für Bildschirme und Touchscreen-Verkabelungen und Schutzfolien, Solarlichtabsorptionsschichten und Halbleiter verwendet. Verkabelung und andere Industrien. Neben der Erfüllung der Kundenbedürfnisse nach flachen Targets (der größten G8.5-Generation) können wir auch rotierende Kupfertargets herstellen, die hauptsächlich in der Touchscreen-Industrie verwendet werden.

Die Kristallkörner von hochreinen Kupferzielen sind schwer zu brechen. Wir können das Wachstum von Kristallen nur durch ultragroße Verformungsbearbeitung kontrollieren, um eine feine und gleichmäßige Mikrostruktur zu erhalten, die eine niedrigere Erosionsrate während der Sputterbeschichtung gewährleisten und die Empfindlichkeit der Partikelbildung während des Sputterns reduzieren kann. Die folgende Abbildung zeigt zwei typische mikroskopische metallographische Inspektionsbilder von Kupfer-Sputtering-Targets mit einer durchschnittlichen Partikelgröße von <50 um.

Sofern Sie detaillierte Zielinformationen wie Reinheit, Größe, Toleranzanforderungen und andere technische Anforderungen angeben, erstellen wir Ihnen schnellstmöglich ein Angebot und bieten Ihnen die schnellste Lieferzeit.

Verunreinigungen im Kupfer-Sputtering-Target verringern die Leitfähigkeit des Materials, und Verunreinigungen sind der Hauptfaktor, der die Ausbeute bei der Herstellung von Halbleiterfilmen beeinflusst. Besonders kritisch sind Verunreinigungen in Form von Titan, Phosphor, Calcium, Eisen, Chrom und Selen. Diese Metalle sind in unseren Kupferzielen sehr gering, und ihr Gehalt an Verunreinigungen liegt weit unter dem von den Kunden geforderten Standardwert. Die folgende Tabelle ist das Zusammensetzungsanalysezertifikat des 4N hochreinen Kupfer-Sputtering-Targets. Die verwendeten Analysemethoden sind: 1. Verwenden Sie GDMS oder ICP-OES, um Metallelemente zu analysieren; 2. Verwenden Sie LECO für die Gaselementanalyse.

Q:Sind Sie Handelsunternehmen oder Hersteller?
Wir sind Fabrik.
Q: Wie lange ist Ihre Lieferzeit?
In der Regel dauert es 3-5 Tage, wenn die Ware auf Lager ist.
oder es ist 7-10 Tage, wenn die Ware nicht auf Lager ist, es ist nach Menge.
Q: Stellen Sie Muster zur Verfügung? ist es kostenlos oder extra?
Ja, wir können die Probe kostenlos anbieten, zahlen jedoch nicht die Frachtkosten.
Q: Wie sind Ihre Zahlungsbedingungen?
Zahlung <=5000 USD, 100% im Voraus.
Zahlung >=5000USD, 80% T/T im Voraus, Restbetrag vor Versand.
eine Nachricht hinterlassen
WENN Sie sind an unseren Produkten interessiert und möchten mehr Details erfahren, bitte hinterlassen Sie hier eine Nachricht, wir antworten Ihnen so schnell wie wir.
Verwandte Produkte
Vanadium target
Maßgeschneidertes Sputtering-Target Metall-Vanadium-V-Target-Hersteller aus China
Vanadium-Targetmaterial, Vanadium: Elementsymbol V, silbergraues Metall, gehört zur VB-Gruppe im Periodensystem
Iron Fe target
Maßgeschneidertes hochreines Sputtertarget Metall-Eisen-Fe-Target-Hersteller aus China
Hochreines Eisen ist ein wichtiges Material zur Herstellung von magnetischen Aufzeichnungsträgern
Cobalt Co target
Custom made High purity Sputtering target Metal Cobalt Co target manufacturer from China
Kobalt ist ein glänzendes silbergraues Metall mit einem Schmelzpunkt von 1493°C
Molybdenum Mo target
Maßgeschneidertes hochreines Sputtertarget Metall-Molybdän-Mo-Target-Hersteller aus China
Molybdän ist silberweißes Metall, der Atomradius von Molybdän beträgt 0,14 nm
Niobium Nb target
Maßgeschneidertes hochreines Sputtertarget Metall Niob Nb Target Hersteller aus China
Niob-Targetmaterial, Niob-chemisches Symbol Nb, Ordnungszahl 41
Tantalum Ta target
Maßgeschneidertes hochreines Sputtertarget Metall Tantal Ta Target Hersteller aus China
Tantal chemisches Symbol Ta, stahlgraues Metall, gehört zur VB-Gruppe im Periodensystem
eine Nachricht hinterlassen
WENN Sie sind an unseren Produkten interessiert und möchten mehr Details erfahren, bitte hinterlassen Sie hier eine Nachricht, wir antworten Ihnen so schnell wie wir.

Zuhause

Produkte

Über

Kontakt