Hochreines Sputtering-Metall-Target Aluminium-Al-Target speziell geformter Anpassungshersteller aus China

Aluminium Target, Aluminium ist silberweißes Leichtmetall. Es gibt Formbarkeit. Rohstoffe werden oft zu Stäben, Flocken, Folien, Pulvern, Bändern und Filamenten verarbeitet. Es kann einen Oxidfilm bilden, um Metallkorrosion in feuchter Luft zu verhindern. Aluminiumpulver kann beim Erhitzen in der Luft heftig brennen und eine blendend weiße Flamme abgeben. Es ist in verdünnter Schwefelsäure, Salpetersäure, Salzsäure, Natriumhydroxid und Kaliumhydroxidlösung leicht löslich, aber kaum löslich in Wasser. Die relative Dichte beträgt 2,70. Der Schmelzpunkt beträgt 660°C. Der Siedepunkt liegt bei 2327°C. Der Gehalt an Aluminium in der Erdkruste ist nach Sauerstoff und Silizium an zweiter Stelle, an dritter Stelle, und es ist das am häufigsten vorkommende Metallelement in der Erdkruste.

Die Entwicklung der drei wichtigen Industriezweige Luftfahrt, Bau und Automobil erfordert, dass die Eigenschaften von Materialien die einzigartigen Eigenschaften von Aluminium und seinen Legierungen aufweisen, was die Herstellung und Anwendung dieses neuen Metalls Aluminium erheblich erleichtert. 3N8-4N8 Aluminium wird hauptsächlich zum Walzen von Aluminiumfolie für Elektrolytkondensatoren, Beleuchtungskörper und Datenspeicher verwendet. 5N-6N ultrareines Aluminium wird hauptsächlich bei der Herstellung von Halbleiterbauelementen, der Herstellung von optoelektronischen Speichermedien, supraleitenden Kabelstabilisierungsmaterialien und spielt eine wichtige Rolle in der wissenschaftlichen Forschung von Space Shuttles. Das Bild unten ist das mikroskopische metallografische Inspektionsbild eines Aluminium-Sputtering-Targets, die durchschnittliche Partikelgröße beträgt weniger als 300μm.

Sofern Sie detaillierte Zielinformationen wie Reinheit, Größe, Toleranzanforderungen und andere technische Anforderungen angeben, erstellen wir Ihnen schnellstmöglich ein Angebot und bieten Ihnen die schnellste Lieferzeit.

Wir produzieren hochreine Sputtertargets aus Aluminium. Sein größter Vorteil besteht darin, dass im Prozess der physikalischen Gasphasenabscheidung ein dünner Film mit hervorragender elektrischer Leitfähigkeit und Partikelminimierung erhalten werden kann. Die folgende Tabelle ist ein Zertifikat für die Zusammensetzungsanalyse von 5N hochreinem Aluminium-Sputtering-Target. Verwendete Analysemethoden: 1. Verwenden Sie GDMS oder ICP-OES, um Metallelemente zu analysieren; 2. Verwenden Sie LECO für die Gaselementanalyse.