Art.-Nr:
GS-T004Zahlung:
L/C、 Western Union、 D/P、 T/TProduktursprung:
Anhui, Chinamaximale Größe:
CustomizationOrientierung:
Paket:
100 clean bag,1000 exactly clean bagProduktdetail
Spezifikation
Prozessablauf
Verpackung
Transport
Testbericht
FAQ
Sofern Sie detaillierte Zielinformationen wie Reinheit, Größe, Toleranzanforderungen und andere technische Anforderungen angeben, erstellen wir Ihnen schnellstmöglich ein Angebot und bieten Ihnen die schnellste Lieferzeit.
Wir produzieren hochreine Sputtertargets. Sein wichtigster Vorteil besteht darin, dass im Prozess der physikalischen Gasphasenabscheidung ein dünner Film mit hervorragender Leitfähigkeit und Partikelminimierung erhalten werden kann. Die folgende Tabelle ist ein Zertifikat für die Zusammensetzungsanalyse von 4N hochreinem Eisen-Sputtering-Target. Die verwendeten Analysemethoden: 1. Verwenden Sie ICP-OES, um Metallelemente zu analysieren; 2. Verwenden Sie LECO, um Gaselemente zu analysieren.